IGMF 2025深圳國(guó)際高(gāo)端研磨抛光(guāng)材料技(jì)術(shù)展覽會(huì)-展會(huì)群
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今天是(shì):2025年(nián)3月(yuè)7日(rì) 星期五
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IGMF 2025深圳國(guó)際高(gāo)端研磨抛光(guāng)材料技(j♦←ì)術(shù)展覽會(huì)
所屬行(xíng)業(yè): 通(tōng)信、通(tōng)訊、電(diàn)φφ£子(zǐ) 舉辦時(shí)間(jiān): 2025-04-09至2025-04-11
舉辦展館: 深圳會(huì)展中心 舉辦城(chéng)市(shì): 廣東(dōng) - 深圳市(shì)
舉辦地(dì)點: 深圳市(shì)福田區(qū)福華三路(lù)
主辦單位
IGMF 2025深圳國(guó)際高(gāo)端研磨抛光(guāng)材料技(jì)術(shùλσ)展覽會(huì)
參展範圍
材料:抛光(guāng)漿、抛光(guāng)蠟、抛光(guāng)輪、研磨液、清洗液、'₹α光(guāng)亮(liàng)劑、保護劑、防鏽液、氧化(huà)鋁、氧化(↕₹σ÷huà)鉻、抛光(guāng)粉、抛光(guāng)膏、研磨石、↔¶♦磨光(guāng)輪、切磨砂輪、抛光(guāng)輪、磨光(guāngλ≠≤)帶、打磨片、磨頭、磨光(guāng)片、磨<"₽光(guāng)棒、磨光(guāng)機(jī)轉子(zǐ)、天然磨料、普通(tōngεΩ)人(rén)造磨料、深加工(gōng)磨料、研磨抛∞ε¥♦光(guāng)材料、研磨助劑、研磨膏、研磨劑、抛光(guāng)劑、抛光(guān↓♦•g)液、其它抛光(guāng)助劑抛光("♠®™guāng)材料等。

設備:抛光(guāng)機(jī)器(qì)人(rén)、研磨機(jī)、磨光(g↑₽<€uāng)機(jī)、去(qù)毛刺機(jī)、打磨機">$‌(jī)、磨研機(jī)、水(shuǐ)磨機(jī)、幹磨機(jī)、光(guāng)飾★≤←↕機(jī)、角磨機(jī)、渦流機(jī)、磨平機(jī)、磨抛機(jī)、金(jīn)相$¶ "(xiàng)試樣切割機(jī)、預磨機(jī)、鑲嵌機(jī)、精密小(xiǎo‌≠£$)車(chē)床、電(diàn)化(huà)‌÷≠π學去(qù)毛刺設備機(jī)床、電(diàn)解去δ ≈←(qù)毛刺設備、超聲波去(qù)毛刺設備、高(gāo)壓水(shuǐ)噴射去(qù)毛刺設備™£¶₩、熱(rè)爆炸去(qù)毛刺、冷(lěng)× 凍修邊去(qù)毛刺、等離(lí)子(zǐ)抛光(guā♦∞γng)設備、電(diàn)解抛光(guāng)機(jī)、磁力抛光(guā >ε₹ng)機(jī)、方管抛光(guāng)機(jī)、圓管抛光(guāng)機(jī)£♦£‌、異型管抛光(guāng)機(jī)、圓管內λ♠(nèi)孔抛光(guāng)機(jī)、不(bù)鏽鋼抛光(guāng)機β (jī)、全自(zì)動抛光(guāng)機(jī)、磁力抛光(guā£↑★₹ng)機(jī)、金(jīn)屬卷料抛磨生(shēφ↕φ≠ng)産線、數(shù)控多(duō)頭抛光(guāng)機(jī)、單雙面自(zì)動抛光(↓™guāng)機(jī)、鏡面自(zì)動抛光(guāng)機(jī)、γ 非标型抛光(guāng)機(jī)、抛光(guāε£π®ng)機(jī)系列、砂帶機(jī)系列↓$↑‍、拉絲機(jī)系列、剖溝機(jī)系列、噴砂機(jī) ↑系列、高(gāo)光(guāng)機(jī)系列、吸塵器(§₩ qì)系列、貼膜機(jī)系列、自(zì)動抛管機(jī)、研磨磨光(guāng)和(hé)抛↕¶光(guāng)設備、粉碎設備其它抛光(guāng)機(jī)械等。其它表面工(gōng)程&↑↔設備及材料;顧問(wèn)服務和(hé)其他(tā)服務品、相(×≈'xiàng)關出版物(wù)及網絡。

展會(huì)介紹

     λ¥​  近(jìn)年(nián)來(lái),随著(zhe)新材料、新工(∑ gōng)藝的(de)不(bù)斷湧現(xiàn),研磨抛光(guāng)材&π★>料行(xíng)業(yè)也(yě)呈現(xiàn)出新的​→(de)發展趨勢。高(gāo)端研磨抛光(g☆γuāng)材料技(jì)術(shù)成為♦✘(wèi)行(xíng)業(yè)發展的(de)熱(ε ÷≠rè)點和(hé)趨勢,社會(huì)的(de)發展,工(¥>♠αgōng)業(yè)的(de)進步,軌道(dào)交通(tōng)、電(di∏↔γàn)子(zǐ)電(diàn)力和(hé)航空(✔≤₩kōng)航天等領域對(duì)于功率器(qìσ§')件(jiàn)的(de)需求與日(rì)俱增。其中,晶圓、陶瓷基闆等關鍵部件(jià"¥♦ n)将持續爆發,而這(zhè)些(xiē)關鍵部件(jiàn)往往要(yào)γ±₩₩求極精密的(de)結構尺寸和(hé)極高(gāo)的(de)平整度,抛™α‍光(guāng)作(zuò)為(wèi)該<×→類部件(jiàn)生(shēng)産過程中最為(wèiφ↓®£)關鍵的(de)環節,決定了(le)産品整體(tǐ)質量的(de)好(hǎo)壞。目前高‌₽$₩(gāo)端抛光(guāng)材料主要(yào)由美(měi)、日(r‍α♣≈ì)龍頭企業(yè)壟斷。美(měi)國(guó)的(de)Cabot、日(rì)本的(de)日Ω ¥δ(rì)立和(hé)富士美(měi)三家(j₹↕φiā)公司抛光(guāng)液全球市(shì)占率達一(yī)半™→以上(shàng)。而在全球抛光(guāng)墊市"≈¥(shì)場(chǎng)上(shàng),<<陶氏市(shì)占率接近(jìn)80%。作(z'™♣​uò)為(wèi)重要(yào)輔材,抛光(guāng)材料已經®""成為(wèi)我國(guó)半導體(tǐ)産業(yè)實現(xiàn)全産業(&↑©∑yè)鏈自(zì)主可(kě)控必須攻克的(de)一(yī)環。
      IGMF 2025将吸引衆多(duō)國(guó)內(n✔✔èi)外(wài)知(zhī)名企業(yè)參展λ¥,展示最新的(de)研磨抛光(guāng)材料技(j →ì)術(shù)和(hé)解決方案。同時(shí),展會(huεσ®£ì)還(hái)将舉辦現(xiàn)場(chǎng)精彩活動,為(wèi)參展商₽™​ 和(hé)觀衆提供一(yī)個(gè)交流、采購(gòu)"♥、合作(zuò)的(de)平台。
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